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EUV

ASML CEO、競合不在を断言

2026/5/6 by Hoshikage Akari

AI時代に不可欠な最先端半導体製造装置を独占するASMLのCEO、クリストフ・フーケ氏は、競合の出現を全く心配していない。同氏は、極端紫外線リソグラフィー(EUV)技術の複雑さと、それを実現するためにASMLが培ってきた … 続きを読む

カテゴリー News タグ AI、ASML、EUV、リソグラフィー、半導体 コメントをどうぞ

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